[original_title]

Pertarungan global dalam pengembangan lapisan aplikasi AI terus berlanjut

fost-nepal.org – Laporan terbaru dari perusahaan modal ventura global, Accel, menunjukkan bahwa Amerika Serikat memimpin jauh di depan Eropa dalam pengembangan model kecerdasan buatan (AI) besar, meskipun terdapat pergeseran signifikan dalam lapisan aplikasi. Laporan bertajuk “2025 Globalscape” itu mencatat bahwa aplikasi cloud dan AI di Eropa serta Israel telah menarik 66% dari total investasi swasta yang diterima oleh rekan-rekannya di Amerika Serikat hingga tahun 2025.

Philippe Botteri, mitra Accel, menjelaskan bahwa lebih dari satu dekade lalu, Eropa hanya menyerap sepuluh persen dari investasi yang diterima Amerika. Saat ini, Eropa telah membangun ekosistem yang melibatkan pendiri dan investor yang berpengalaman dalam merintis perusahaan perangkat lunak yang sukses. Hal ini menciptakan momentum yang telah berjalan selama sepuluh tahun.

Kondisi ini bertepatan dengan pengamatan Jonathan Userovici, mitra di Headline yang berbasis di Paris, yang menekankan bahwa banyak pendiri di Eropa dan Israel kini menggabungkan bakat teknis berkelas dunia dengan pemahaman pasar yang mendalam dalam berbagai sektor, termasuk kesehatan, hukum, dan manufaktur.

Accel juga mengidentifikasi bahwa pertumbuhan pesat dalam aplikasi AI baru dapat mencapai pendapatan tahunan sebesar 100 juta dolar dalam waktu singkat, suatu pencapaian yang sebelumnya membutuhkan waktu bertahun-tahun. Botteri mencatat bahwa perusahaan-perusahaan ini menunjukkan tingkat efisiensi tertinggi yang pernah ada, baik di Eropa maupun Amerika.

Meskipun ada harapan tinggi untuk perusahaan model buatan dalam negeri di Eropa, outlook Accel untuk perusahaan tersebut dinilai kurang optimis. Mereka mengakui adanya peluang untuk pemimpin masa depan muncul di sektor ini, meskipun tantangan cukup besar. Di sisi lain, persaingan untuk investasi di lapisan aplikasi AI terus aktif berlangsung, dengan pertanyaan-pertanyaan mengenai pertahanan bisnis yang masih menjadi perdebatan.

Leave a Reply

Your email address will not be published. Required fields are marked *